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　　器件筑筑的核心流程，首要工艺进程包罗前惩罚、涂胶、软烘烤、对准曝光、PEB、显影、硬烘烤和检验。光刻工艺经过上述流程将具有轻微几多图形构造的光刻胶留在衬底上，再资历刻蚀等工艺将该陷坑变动到衬底上。

　　光刻胶算作功用光刻成绩中间因素之一，是电子财产的合键质地。光刻胶由溶剂、光胀舞剂和成膜树脂三种紧张身分组成，是一种具有光化学敏感性的搀杂液体。其利用光化学反响，经曝光、显影等光刻工艺，将所供给的细微图形从掩模版变动到待加工基片上，是用于细小加工方法的合键性电子化学品。

　　因其在半导体等电子器件筑设历程中的关键作用，光刻胶成为我们国要点转机的电子财富关键质料之一。

　　依据显影收获不同，光刻胶可分正性光刻胶和负性光刻胶。正性光刻胶的曝光个别溶于显影剂，显影时变成的图形与掩膜版上的图形似乎。

　　负性光刻胶的曝光个别不溶解于显影剂，显影时形成的图形与掩膜版相反。两者的坐蓐工艺流程根本雷同。

　　正性胶已成为主流半导体光刻胶。负性光刻胶最早诈欺在半导体光刻工艺中，但由于显影时易变形和膨饱，1970s自此正性光刻胶成为主流。且自，在半导体光刻胶鸿沟，g线、i线、ArF线均以正胶为主。

　　依据操纵鸿沟的不同，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶。其中，PCB光刻胶的技能壁垒最低，半导体光刻胶的方法门槛最高。PCB光刻胶紧要搜罗干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨。LCD边界光刻胶紧要搜罗彩色光刻胶和黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶。

　　半导体光刻胶包罗普通宽普光刻胶、g线nm）、i线nm）及开初进的EUV（《13.5nm）光刻胶，级越往上其极限分辩率越高，同局部积的硅晶圆布线密度越大，机能越好。

　　光刻胶处于电子工业链中间症结，是半导体国产化的枢纽一环。光刻胶在电子工业链举足轻重，其上游是周详化工行业，下流是半导体、印制电路板、液晶露出器等

　　开发行业。其中，半导体是光刻胶要领门槛最高的卑贱领域。在半导体详尽加工从微米级、亚微米级、深亚微米级进入到纳米级秤谌的过程中，光刻胶起着举足轻重的效用，其分娩筑立也因此成为半导体家当链自助化的关键一环。

　　光刻胶商场不乱发展，华夏大陆领跑环球。字据Cision数据，2019年，全球整体光刻胶墟市界限为91亿美元，而到2022年则有望抵达105亿美元，年均复关增疾5%。此中，看成环球最大电子

　　收支口国，华夏泯没了光刻胶最大的市集份额。同时，随同中原在半导体、面板和PCB等电子元器件的市场效力力逐年擢升，国内光刻胶商场领域速速扩张，字据SEMI数据，2015-2020年中国光刻胶市集领域由100亿元促进至176亿元，年均复合增快12.0%。

　　国内缺乏半导体光刻胶供应才气，国产替换空间宽阔。分品类来看，在全球光刻胶商场，半导体、LCD、PCB类光刻胶各自拥有27%、24%和24%的份额。个中半导体光刻胶占比最高，也是本领难度最高、生长性最好的细分市场。

　　然而，一时所有人国半导体光刻胶和面板光刻胶制造技能仍较弱，华夏光刻胶企业紧张分娩权术水平较低的PCB用光刻胶，占全体坐褥罗网中的94%。我们国本土的半导体光刻胶及面板光刻胶提供精明相称有限，急急依赖进口，所以其国产替代空间广大。

　　后来居上。1839年，第一套“光刻体系”浸铬酸盐明胶降生。从此进程百年转机，光刻胶措施开始成熟，1950s，德国Kalle公司制成重氮萘醌-酚醛树脂印刷质料，曝光光源可接收g线s，IBM应用自研的KrF光刻胶突破了KrF光刻机谋。随后，东京应化于1995年研发出KrF正性光刻胶并告终大周围贸易化，所以迅快吞没市场，这标记着光刻胶正式投入日本厂商的霸主时间。此辉煌刻技术仍在延续转机，ArF、EUV光刻胶先后问世。2000年，JSR的ArF光刻胶成为半导体工艺开拓联盟

　　的下一代半导体0.13μm工艺的抗蚀剂。2001，东京应化也推出了自己的ArF光刻胶产品。2002年，东芝开荒出辨别率22nm的低分子EUV光刻胶。JSR在2011年与SEMATECH联络垦荒出用于15nm工艺的化学增添型EUV光刻胶。

　　当前日本企业在光刻胶领域仍周旋主持身分。光刻胶的主旨伎俩被日本和欧美企业所独揽，并且由于光刻胶的卓殊性质，商场潜在加入者很难对成品实行逆向说明，因此光刻胶物业透露日本企业寡头把持名目。世界吃紧光刻胶企业有日本JSR、东京应化、信越化学，美国陶氏化学、韩国东进世美等。中国光刻胶物业规模仍较小，但已有繁密厂商主动机关，严重收罗晶瑞电材、北京科华、华懋

　　光刻胶财富链共有四大壁垒，从上游至收场差别是原质地壁垒、配方壁垒、筑立壁垒和认证壁垒。此中，原原料壁垒和配方壁垒对光刻胶厂商从原料合成以及分别化研发技能提出较高乞请。开发壁垒吃紧是研发中配套欺骗的，以光刻机为和中间的半导体修立，由于先进半导体装备每每价钱不菲，因此这也构成光刻胶垦荒的壁垒之一。

　　其它，光刻胶虽是半导体开发的焦点材料，但其成本占全部制造流程中的比例并不高，所以下劣厂商更换意愿低，再加之光刻胶本身长达数年的认证周期，这就构成了下劣认证壁垒。

　　已往，受限于多项壁垒陵虐，国内光刻胶厂商只能在夹缝中生活，产品基本聚会在较低端的PCB光刻胶。而且则，国产光刻胶正处于替代窗口期，行业壁垒有渐渐被伸开的趋势。

　　开始，国内光刻胶厂商经过多年积储，已积贮了更丰富的光刻胶坐褥手段，头部厂商诸如北京科华、晶瑞电材等已经在KrF、ArF等高端品类中崭露锋芒，因此配方壁垒和原质地壁垒，在国内本领积贮靠近冲破奇点的处所上，有望被必定水平上打破。

　　同时，血本商场对光刻胶的投资升温也大幅拉动了光刻胶企业的融资智力。修造壁垒的本质是资本壁垒，在本钱充足的情状下，国内厂商正踊跃添置前辈

　　等高端设置，以立室先进制程产品研发。其余，国产化需要增强了卑鄙晶圆厂对国内光刻胶需要商的认证愿望，再加之信越化学断供等无意变乱，国内光刻胶已经进入客户认证加疾期。

　　从商场占比来看，半导体、PCB与LCD三类光刻胶市场份额亲近。个中，半导体作为生长动力最强、发扬空间最广、要领含量最高的低劣市集，应该是国产光刻胶突破最重心的倾向。同时，PCB和LCD光刻胶国产化也仍有不小空间，因而，本章轻率光刻胶三大卑鄙使用品类实行分类阐述，以梳理破例类别光刻胶的投资逻辑。

　　的最小特性尺寸，是大领域集成电路建立的进程中最主要的工艺。光刻和刻蚀工艺占芯片兴办期间的40%-50%，占筑造本钱的30%。在图形变化进程中，平常要对硅片举办十频仍光刻。光刻胶需历程硅片冲洗、预烘、涂胶、前烘、对准、曝光、后烘、显影、刻蚀等闭节，将掩膜版上的图形变更到衬底上，变成与掩膜版对应的若干图形。

　　随着半导体系程由微米级、亚微米级、深亚微米级参加到纳米级阶段，配套光刻胶的感光波长也由紫外宽谱向g线nm）→i线nm）的偏向变化，以抵达集成电路更高的繁茂度，从而满意市集对于半导体小型化、功能各种化的的须要。

　　ArF光刻胶消灭半导体光刻胶市集四成份额，是片刻最厉重的半导体光刻胶之一。ArF光刻胶严浸用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中，感光波长为193nm，可用于130nm-14nm芯片工艺制程（个中干式吃紧用于130nm-65nm工艺，浸没式重要用于65nm-14nm工艺。），部分晶圆厂甚至可以运用ArF光源做到7nm制程。以中芯国际收入陷坑为例，在1Q21收入中66%的收入来自ArF光刻胶对应制程，其首要程度可见一斑。

　　姑且，KrF光刻胶和g/i线%份额，均是告急的成熟制程光刻胶。KrF光刻胶吃紧用于KrF激光光源光刻工艺，对应工艺制程在250nm-150nm；而g/i线光刻胶首要用于

　　汞灯光源的光刻工艺，对应350nm及以上工艺制程。其它，用于极紫外光刻的EUV光刻胶是暂时使用制程首先进的光刻胶产品，紧张用于7nm及以下前辈制程的光刻工艺，该产品刹那仍处于诈骗早期，其市集份额较小且难以统计，不过改日有望发展为光刻胶最主旨的细分市场之一。

　　日本厂商在半导体光刻胶领域淹没完全主导地点。从整体商场来看，日本企业在光刻胶商场吞没七成以上份额，此中JSR株式会社杀青了光刻胶产品全笼盖，是环球光刻胶龙头厂商。其全班人要紧厂商搜罗日本的东京应化、富士电子、信越化学和住友化学，美国的陶氏化学和韩国的东进世美肯等。

　　从细分市集来看，日本厂商简直独揽先辈制程市集。在g/i线光刻胶界限，除了日系厂商外，又有韩国东进世美肯和美国杜邦各自淹没12%和18%份额。而在KrF界线，急急非日系厂商仅剩美国杜邦，浸没11%份额。再到ArF光刻胶市集，美国杜邦份额也仅有4%，这一细分市场几乎被日系厂商控制。至于片刻工艺制程开初进的EUV光刻胶，则更是被JSR和信越化学两家日系厂垄断。

　　国内半导体光刻胶企业告急包括晶瑞电材（苏州瑞红）、彤程新材（北京科华）、上海新阳、华懋科技（徐州博康）和南大光电等。国内光刻胶产品重要咸集在g/i线商场，而KrF和ArF光刻胶仍处于手段蓄积和市场开发期。

　　ArF光刻胶方面，五家厂商均已采办了ArF光刻机用于产品研发，暂且正处于方法开荒或客户验证中。2021年7月初，南大光电自立研发的ArF光刻胶履历客户认证，成为国内阅历产品验证的第一只国产ArF光刻胶。未来随着国内光刻胶企业无间在KrF范围拓宽客户，并在ArF市集完成办法构造，国产光刻胶有望告竣全面冲破。

　　光刻工艺同样也是液晶面板修造的重心工艺，通过镀膜、洗刷、光刻胶涂覆、曝光、显影、蚀刻等工序，将掩膜版上的图形变动到薄膜上，造成与掩膜板对应的多少图形，从而制得TFT电极与彩色滤光片。面板光刻胶在个中献艺了紧张的角色，是LCD工业链上游至合首要的核心质量。

　　面板光刻胶吃紧分为TFT-LCD光刻胶、彩色光刻胶和黑色光刻胶、和触摸屏光刻胶。三类面板光刻胶被利用在LCD筑立过程的例外工序中。TFT-LCD光刻胶用于加工液晶面板前段Array制程中的微小图形电极；彩色光刻胶和黑色光刻胶用于修设LCD中的彩色滤光片；触摸屏光刻胶用于筑造触摸电极。

　　作陪显现工业转化，国内面板光刻胶墟市范围速速伸展。从2009年发轫，面板财产链逐渐向华夏转折。历程十年的速快扩张，中国面板行业后来居上。姑且举世前三大液晶面板提供商京东方、华星

　　、惠科光电均为华夏厂商，中原已经主导液晶呈现工业。而随着全班人国面板产能的陆续伸张，面板光刻胶当作重心材料，需求量也在继续促进。笔据产业音尘网的数据，2015-2020年，中原面板光刻胶市集领域由3.07亿美元滋长为10.2亿美元，年均复闭增速27.14%。假使国内市集对付LCD光刻胶的需求量一向促进，但我们国面板光刻胶坐褥材干仍苛浸亏折。

　　当前面板光刻胶的坐褥被日韩厂商操纵，以必要最多的彩色光刻胶为例，左证前瞻家当斟酌院数据，东京应化、LG化学、东洋油墨、住友化学、三菱化学、奇美等日本、韩国和中国台湾企业占据了90%以上的商场份额，我国本土供应才力较弱。

　　在LCD光刻胶广大必要空间的布景下，国内厂商也在踊跃实行LCD光刻胶的国产化。国内面板光刻胶的急急厂商有北旭电子、晶瑞电材、容大感光、雅克科技、欣奕华等。片刻，北旭电子适用于4MASK工艺的Halftone光刻胶完毕量产，公司临盆的高折柳率光刻胶也已阅历客户开端认证，面板用正性光刻机杀青全线覆盖。

　　飞凯材料TFT-LCD光刻胶仍旧造成安靖售卖，面板用光刻胶营业的大幅擢升，2021Q1营收同比促进53%。博砚电子的黑色光刻胶仍然竣工开发和中试工作，全体伎俩抵达国际先辈。雅克科技收购LG化学彩色光刻胶事业部的生产机械设置、存货、常识产权等，把握了彩色光刻胶和正性光刻胶的制程工艺。

　　PCB光刻胶是印制线途板重要的上游原质量之一，占PCB设备成本的3%-5%。可分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶与光成像阻焊油墨。干膜光刻胶是由液态光刻胶在涂布机上和高明净度的条目下均匀涂布在载体PET膜上，经烘干、冷却后覆上PE膜，收卷而成的薄膜型光刻胶。湿膜光刻胶的

　　湿膜光刻胶的机能优于干膜，且则正在加快交换干膜光刻胶。湿膜具有精度更高，价钱更省钱的优势，能够满意PCB高职能的央求。但同时操着难度更高，废液会混杂处境。干膜具有附着性强、独揽浅近，易于加工、境况喜好的特点，在处置高密度电路上更有优势。但导致电途毛病的能够性更大。

　　光成像阻焊油墨是在PCB的制作历程中起阻焊作用的油墨，可能注意焊锡搭线形成的短路，可保障印刷电路板在建设、运输、蓄积、操纵时的宁静性、电职能巩固性。

　　寄托全部人们国在工作力和资源等方面的优势，21世纪今后，PCB家产入手向国内蜕变，国内厂商逐步足下了PCB上游要叙原材料的焦点门径，有效低落了成本，大幅提升了产能。据中商财产考虑院预计，2019年举世印制电途板产值约637亿美元，所有人国PCB市场领域抵达329.4亿美元，占环球墟市的份额横跨50%，是全球最大的PCB生产国。计算在2021年产值能到达370.5亿美元。同时，2000-2019年间，日本、美国和欧洲产能所占份额从70%降至7%。

　　所有人国且自已经成为寰宇PCB财富链的主导者，而作为PCB的合键原质地之一，PCB光刻胶的需要也在无间增加。凭单物业音信网的预估，2020年我们国PCB光刻胶的墟市界限为85亿元，随着PCB向更高的精度开展，市集对PCB光刻胶的质料将会有更高的仰求。

　　只管全部人国据有全球近一半的PCB产能，但PCB光刻胶市集照旧是日本主导。凭据前瞻产业想考院的测算，台湾长兴化学、日本旭化成、日今天立化成三家企业就湮灭了干膜光刻胶超80%的商场份额。凭单工业讯休网的数据，在光成像阻焊油墨方面，仅日本一家企业太阳油墨就埋没了60%的天下商场份额。

　　证据中商家当斟酌院数据，全部人国PCB光刻胶国产化率约50%。由于PCB光刻胶的要领壁垒远低于LCD光刻机和半导体光刻胶，因此在三类光刻胶中，PCB光刻胶的国产替代历程最疾。华夏内资企业已在国内PCB市集中泯没50%以上的市场份额。在全班人们国PCB光刻胶生产企业中，本土企业占六成。

　　国内市集研发经过加速。暂且，容大感光、广信质地、东方质地、北京力拓达等内资企业已占领国内50%掌握的湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨市场份额。国内企业中，飞凯质地、容大感光、广信质量等已有相应PCB光刻胶产品投产。广信原料公司年产8000吨感光质量为PCB油墨系列产品还是分娩爬坡。

　　容大感光的车载PCB用阻焊油墨，依旧成功行使于多个驰名品牌的汽车上，姑且年卖出量在100吨以上，后续会加大研发插足，并踊跃实行墟市践诺。

　　在光刻胶资产最中央的半导体光刻胶界线，短暂国产替代趋势正愈演愈烈，除了下游厂商从提供链安然角度扶植国产光刻胶以及国家战略赈济等成分外，另有国内外晶圆厂扩产潮带来的需要爆发和认证窗口期。再加之环球光刻胶权威信越化学受地震效力而减产，断供了私人中小晶圆厂，进一步加剧了半导体光刻胶产品缺陷，也为国内光刻胶企业需要了名贵的更换窗口期。

　　通讯、新能源汽车、高本能计较、线上任职和自愿化等对半导体日益增长的强劲必要，宇宙各大半导体设备商将在未来两年差异新筑19座和10座高容量晶圆厂。华夏大陆和华夏台湾在将来两年将区别建树8座晶圆厂，美国新修6座。这29座晶圆建成后将新增260万片/月的晶圆产能，有望拉动举世半导体光刻胶商场范畴络续高速生长。

　　国内晶圆厂修设火热实行，光刻胶投入认证窗口期。随着中美贸易争论往后，国内对芯片行业的重视秤谌越来越高，中原大陆

　　商正加疾扩产。例如长江生存和紫光国微的在建产线万片的新增产能。中芯国际且自有三条产线万片/月的在建产线万片的经营产线、待投产后每月将各多释放20万片新产能。截止2021年8月，国内急急晶圆厂决策扩张的产能约468.48万片/月（折8英寸），仅2021年臆度新增的产能就有约75.58万片/月（折8英寸）。中国大陆的晶圆厂产能伸长将大幅拉动国产光刻胶的市集需求。同时，相较于宁静产线，光刻胶产品在新修产线的客户导入难度更低，因此国产光刻胶企业有望作陪轻贱晶圆厂树立，而一说参加行业起色黄金时代。

　　日腹地震导致信越化学光刻胶减产，断供缺口伸开国产交换窗口期。2021年2月13日，日本福岛东部海域发生7.3级地震，日本光刻胶大厂信越化学在本地的KrF产线遭到阻挠被迫休憩坐蓐。因而其向华夏大陆多家晶圆厂领域供货KrF光刻胶，并向小周围晶圆厂申诉已毕供货KrF光刻胶。

　　由于日本信越化学重没天下22%左右的KrF光刻胶商场份额。因而，信越减产将使得KrF光刻胶需要生计较大的缺口，看待国产企业而言是宝贵的交换机会。

　　意外变乱有望加速国产光刻胶验证。国产光刻胶经验多年发达还是造成了较为富庶的办法储存，短促多家国内厂商的KrF、ArF光刻胶照旧处于产品验证中，如北京科华、上海新阳和徐州博康的ArF干法光刻胶和晶瑞电材的KrF光刻胶等等。而此次信越不料断供无疑加剧了光刻胶毛病，也间接胀动了国产光刻胶验证加速。

　　大基金加码光刻胶厂商彰显信心。2021年7月，南大光电控股子公司宁波南大广电拟体验增资扩股举措引入政策投资者大基金二期。大基金二期将以1.83亿元认购南大光电新增备案本钱0.67亿元。大基金二期入股宁波南大广电，不单能够放大企业的资本势力，同时也将进一步增强企业与国内半导体摆设、芯片设备头部企业的联闭，从而加速光刻胶交往的发展，蜕变国内高端光刻胶受制于人的现状。

　　临时，在半导体光刻胶鸿沟，国内厂商在要领气力、市集感化力、份额占比等方面仍落伍于日韩领先企业。但是，在晶圆厂扩产潮以及半导体国产化如火如荼的趋势下，中原光刻胶厂商迎来了绝佳的希望时机期。刹那已有私人遇上企业，如晶瑞电材、北京科华等，开端崭露头角，在KrF、ArF等高端光刻胶范围告竣从零到一的冲破。华夏光刻胶家当有望步入速速发展期。

　　晶瑞电材是一家微电子原料的平台型高新手腕企业，其围绕泛半导体材料和新能源质料两大方向，紧要产品搜集光刻胶及配套原料、超净高纯试剂、

　　质料和基础化工原料等，丰富行使于半导体、新能源、根基化工等行业。子公司苏州瑞红深耕光刻胶近30年，产品典型肥沃。晶瑞电材子公司苏州瑞红1993年发端光刻胶临盆，给与并告终了国家02专项“i线光刻胶产品拓荒及工业化”项目。公司近30年极力于光刻胶产品的研发和分娩，光刻胶产品样板覆盖高中低告别率的I线、G线紫外正性光刻胶、环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶、厚膜光刻胶等范例，利用行业涵盖

　　半导体光刻胶方面，公司g线、i线产品已达成量产，客户笼罩国内一流厂商。苏州瑞红杀青了多款g线、i线光刻胶产品手腕开发工作，并竣工出卖。获得中芯国际、扬杰科技、福顺微电子等国内企业的供货订单，并在士兰微、吉林华微、深圳方正等着名半导体厂实行试验。临时公司正不绝推广g/i线光刻胶的市集占领率。

　　同时，公司持续推进KrF/ArF深紫外线光刻胶科研攻合。暂时，KrF（248nm深紫外）光刻胶已达成中试，产品告别率到达了0.25～0.13µm的手腕央求，建成了中试树模线Gi型光刻机配置，ArF高端光刻胶研发办事正式启动，旨在研发知足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶。

　　LCD光刻胶方面，公司2016年与日本三菱化学株式会社在苏州建树了LCD用彩色光刻胶团结思虑所，为三菱化学的彩色光刻胶在国内的

　　以及中原国内客户评定检测服务，并于2019年着手批量坐褥提供闪现面板厂家。

　　公司无间投入研发资源，引进高端本事人才。2020年公司研发出席为3，384.70万元，占生意收入的3.31%，研发人员增加至96人，占员工比例的16.6%。中止2020年终，公司及控股子公司已获授权专利70项，个中发觉专利43项，实用新型专利27项，其中光刻胶合联的已获授权察觉专利17项。

　　公司注重高端方法人才的引进，近期邀请陈韦帆教授掌握光刻胶行状部总经理职务。陈韦帆教练深耕半导体行业近20年，曾先后履职力晶、日月光、友达光电、美光（台湾）、TOK等出名半导体企业，加倍在高端光刻胶产品的技能研发、商场拓荒及评价践诺上占领富有的阅历。此次陈韦帆教授的参加将会鼎力抬高公司在高端光刻胶的研发及商场执行的疾度。

　　随着我们国芯片制造行业国产交换历程加速，2020年公司中间产品光刻胶及配套质料的出卖获取史乘最好收成，终年告竣售卖1.79亿元，同比增长16.98%。与此同时，光刻胶来往在公司贸易收入中的占比也得回彰彰擢升，2020年抵达17.52%。

　　北京科华是上市公司彤程新材的控股子公司，其56.56%的股权由彤程新材持有。北京科华是一家潜心于光刻胶及配套试剂的高新法子企业，集先辈光刻胶研发、坐褥和出售为一体。

　　自2004年建树以后，领受了多项国家级光刻胶重点研发及家当化项目。公司产品序列完好，掩盖KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱光刻胶。暂时，集成电途用高辞别G线正胶、I线nm深紫外光刻胶已告终产线确立和量产出货。其产品已广大运用于集成电路、发光

　　、分立器件、先进封装等界限。公司依附先辈的权术水准和安稳的产品质料，照旧成为行业顶尖客户的褂讪配合朋侪。公司吃紧客户网罗中芯国际、上海华力微电子、长江留存、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电等。作陪产品线拓展及客户导入，公司收入范围逐年晋升。2016-2020年，公司营收由5613万元增至8929万元，年均复合增疾12%。2021年上半年，伴随国产替代加速以及行业景气上行，公司收入界限进入高速滋长期，告竣营收5647.83万元，同比增加46.74%。此外，公司主动加大研发加入，助力高端光刻胶产品开辟。2018-2020年的研发支出差别为934万、2018万和3780万元，占收入比例约四成。

　　北京科华权术团队研发气力雄厚，开创人陈昕率领的国际化团队从事光刻胶行业近三十年，拥有多名光刻胶大师，齐全原质地合成、配方以及合系基础评价精明。同时公司论述和操纵测验设备平台较为具备。公司占据分辨率到达0.11um的ASMLPAS5500/850扫描式曝光机、Nikon步进式曝光机、

　　LACT8涂胶显影一体机和HitachiS9220CDSEM等主流建立。完整的支持产品研发和出厂考验的阐发和应用测试平台保障了公司在KrF、G/I线光刻胶产品及闭键原料的就手发扬。

　　公司产品线周备且饶沃，笼罩KrF（248nm）、G/I线（含宽谱）等主流品类，紧张包罗KrF光刻胶DK1080、DK2000、DK3000系列；g-iline光刻胶KMPC5000、KMPC7000、KMPC8000、KMPEP3100系列和KMPEP3200A系列；Lift-off工艺行使的负胶KMPE3000系列；用于分立器件的BN、BP系列等。为保障生产，科华扶植了高等光刻胶坐褥基地，具有百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂分娩线、G/I线吨/年）和正胶配套试剂坐褥线nm光刻胶生产线等多条光刻胶产线。

　　同时公司ArF光刻胶树脂也已加入尝试研发阶段。2021年8月，公司使用自筹血本6.98亿元投资创立“ArF高端光刻胶研发平台建立项目”，急急考虑ArF湿法光刻胶产业化临蓐机谋开拓，阅历扶植次序化的坐褥及限制历程，晋升高端光刻胶的质料节制秤谌，达成193nm湿法光刻胶量产临蓐。项目揣摸于2023年末创建竣工。

　　上海新阳是一家半导体用电子化学品及配套装备设备商。在半导体封装原料界线，公司的成效性化学质料销量与市占率位居全国第一。在半导体制作质量范围，公司的芯片铜互连电镀液及增加剂、蚀刻后洗濯液已完成大界限财富化。别的，公司主动布局高端半导体光刻胶，在ArF干法、KrF厚膜胶以及I线光刻胶鸿沟均有远大冲破。

　　公司器重研发加入，研发费用及研发人员数量逐年增加。放弃2020年末，公司研发团队共有161人，占公司员工总数的26.35%。在半导体来往方式开拓团队中，95%人员为本科以上学历，20%为硕士想虑生以上学历，近30%的手段人员有10年以上行业经历。公司2020年研发出席总额8，027.46万元，占全年生意收入的比重为11.57%，此中半导体交易研发参加占半导体生意的比重为20.60%。

　　停留2020岁暮，公司已申请专利275项，个中发现专利139项。集成电路筑设用高端光刻胶项目是2020年内公司研发投入的浸心项目之一。

　　公司稳步煽动光刻胶项目，部分产品已得到优良的线外试验数据。公司片刻正在开辟的集成电谈制造用高端光刻胶产品收罗逻辑和

　　芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法光刻胶，存储芯片设备用的KrF厚膜光刻胶，以及底部抗反射膜（BARC）等配套原料。公司集成电路制作用ArF干法、KrF厚膜等中试光刻胶产品已获得精良的客户端实验末了，个中，KrF（248nm）厚膜光刻胶产品已资历客户认证，并获胜得到第一笔订单。此外，子公司芯刻微起色的ArF湿法光刻胶项目研发已引进了中间手法专家团队，为ArF湿法光刻胶项计划开荒提供了技巧保障。

　　光刻机修造不休到位，有助于加速胀励公司光刻胶门径工业化。公司采购的用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，以及用于ArF重没式光刻胶研发的ASMLXT1900Gi型光刻机已整个到厂。公司光刻机摆设的不停到位运转，为公司集成电路创造用全家产链光刻胶产品的垦荒需要了需求包管。

　　别的，公司于2020年定增募资8.15亿元到场集成电谈设备用高端光刻胶研发、家当化项目，首要开荒集成电路兴办中ArF干法工艺诈骗的光刻胶和面向3DNAND（闪存，属于非易失性保管器）台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品。公司忖度KrF厚膜光刻胶2022年可告终安谧量产售卖，ArF（干式）光刻胶在2023年发轫宁静量产贩卖。

　　本项目研发凯旋后，公司将左右包括原料纯化工艺、配方工艺和生产工艺在内的、具有完备知识产权的ArF干法光刻胶和KrF厚膜光刻胶的范畴化临蓐伎俩，可竣工两大类光刻胶产品及配套试剂的量产供货。

　　华懋科技是一家一心于汽车安适边界的体例部件需要商，产品线笼盖汽车安静气囊布、平安气囊袋以及和平带等被动安适体例部件，国内市场据有率位居前线。公司在夯实汽车板块业务的同时，经验出席创建财富基金的形状，慢慢机关更具成长性以及方式壁垒的半导体光刻胶行业，拉长公司家产链条。

　　子公司增资徐州博康，切入光刻胶鸿沟。华懋科技控股子公司东阳凯阳2020年向徐州博康增资3000万元，并向徐州博康实控人傅志伟供给5.5亿元的可转股借债和2.2亿元的投资款。华懋科技始末此举估计持有徐州博康26.7%股权，从而杀青了对半导体要叙原料光刻胶鸿沟的机关。

　　徐州博康是国内光刻胶边界抢先企业，占据光刻胶原材推求成品的完满工业链构造。徐州博康创建于2010年，是国内超过的电子化学品高新本领企业，从事光刻质料鸿沟中的中高端化学品的研发、生产、出卖。公司光刻胶供应链告竣了从单体、光刻胶专用树脂、光酸剂及终产品光刻胶的完满机关，其单体产品客户涵盖

　　、JSR等半导体原料龙头厂商。在研发势力方面，徐州博康拥有专业的研发团队和先辈的研发修设，并与国内多个集成电途专业平台发扬协作。徐州博康在松江漕河泾科技绿洲设有5000平方米的国际圭臬研发重心，拥有研发团队200余人，此中博士和硕士占比50%以上。公司已建造KrFNikonS204、I9、I12，ACT8track、日立CDSEM等先辈光刻检测设置，以及其余理化检测装备如ICP-MS、H

　　、GC、IR等。同时，公司193nm光刻胶单体研发项目得回了国家“02专项”子课题立项。别的，公司与国内多个集成电路专业平台实行合作，搜集中科院微电子所、复旦大学微电子学院等平台或企业。

　　徐州博康光刻胶产品标准丰富，可遮盖多种应用领域。公司目前已成功开拓出40余种中高端光刻胶产品系列，搜集KrF/ArF光刻胶单体、KrF/ArF光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶及GHI超厚负胶等产品规范，覆盖IC集成电路创造、IC后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等多种行使界线。

　　徐州博康经过新筑分娩基地，进一步提拔光刻胶产能。徐州博康眼前正在新筑生产基地，该项目具备建成投产后将拥丰年产1100吨光刻质地及10000吨电子级溶剂的总产能，可完毕年产值20亿元，有望成为中原暂且产品最齐全、门径程度最高的光刻胶原料研发开发基地之一。

　　南大光电是一家专业从事高纯电子质量研发、生产和销售的高新机谋企业，资历接收国家伟大要领攻合项目并告竣产业化，公司还是从多个层面突破了所老手业内的外洋永恒垄断，前驱体、电子特气、光刻胶三大关键半导体原料的构造根基造成。

　　公司光刻胶办法研发恒久相持完美自助化道路，公司正在自决研发和物业化的ArF光刻胶（包蕴干式及重没式）能够到达90nm-14nm的集成电说工艺节点。2017及2018年，公司分别获取国家02专项“高分辩率光刻胶与前辈封装光刻胶产品枢纽权术研发项目”和“ArF光刻胶产品的开拓和工业化项目”的正式立项。

　　为此，公司组修了以高端光刻胶专业人才为焦点的孤独研发团队，建成了约1，500平方米的研发中心和百升级光刻胶中试分娩线，垦荒出多款树脂、光敏剂、单体，更始并持续优化提纯工艺，斟酌出193nm光刻胶的配方，产品研发转机和功劳获取业界巨匠的认同。

　　ArF光刻胶物业化项目起色顺遂，产品再次资历客户认证。公司短暂已实现2条光刻胶坐蓐线建树，急急先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等仍然实现装配并插足愚弄。控股子公司宁波南大光电自立研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家保管芯片创造企业的50nm闪存平台上始末认证后，限期又在逻辑芯片建造企业55nm手法节点的产品上得回了认证冲破，成为国内首个体验下旅客户验证的国产ArF光刻胶产品。

　　在长久的进展经过中，公司造成了较为齐全的研发安排体制，经过逐年加大科研力度，技术实力获得不断增强。2020年，公司研发列入总额为2.32亿元，占商业收入的比例为38.98%。研发投入同比促进247.54%，告急是“ArF光刻胶产品的垦荒和产业化”项目增加插足所致。同时，公司研发人员数量逐年增进，罢手2020腊尾，公司占领研发人员136人，占公司总人数的比例为19%旁边。科研力度的加大，使得公司技能实力及自决立异才略获得不停巩固。罢手2020年终，公司及告急子公司自主开发的专利共计79项，个中觉察专利21项，合用新型专利58项。

　　公司2021年拟通过定增募资1.5亿元用于ArF光刻胶手法垦荒及产业化项目。项目决定到2021年终，公司将抵达年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的坐褥范畴，产品性能满足90nm-14nm集成电路兴办的乞求。同时，决议创建国内第一个专业用于ArF光刻胶产品开辟的检测评估平台，满意前辈光刻胶产品和手腕拓荒的需要。公司欲经验这回定增项目实现高端光刻胶坐蓐的完备国产化和量产零的突破，晋升我国高端光刻胶这一界限的自主程度。

　　策画与优化应用界限：集成电途（硅栅、铝栅CMOS、BiCMOS）、分立

　　详解 /

　　依附重没式和多浸曝光手段的保护，可以满足从 0.13um至7nm 共9个妙技节点的

　　、曝光和刻蚀），举行芯片封装，对加工实行的芯片举办技能本能指标试验，此中严浸分娩

　　根源学问点介绍 /

　　、曝光和刻蚀），举行芯片封装，对加工实行的芯片进行方法本能指标考试，个中严浸分娩

　　中的愚弄 /

　　西门子PLC1200经过EtherCAT转Profinet网合接续kollmorgen驱动器

　　RS232转Profinet网合接续ESD设备接入西门子Profinet蚁集